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Description :
Offre à ta peau une pause apaisante avec le Pine Cica Mask ROUND LAB, un masque tissu hydratant qui aide à calmer les rougeurs et à restaurer l’hydratation.
Imprégné d’essence et enrichi en extrait de feuille de pin et en Centella Asiatica, ce masque aide à apaiser les peaux sensibilisées, tandis que l’acide hyaluronique leur apporte un supplément d’hydratation pour un fini doux et repulpé. Installe-toi confortablement pendant 10 à 20 minutes et laisse ta peau profiter de tous ses bienfaits !
Recommandé pour : Tous types de peaux, notamment les peaux sensibles, déshydratées ou sujettes aux rougeurs qui ont besoin d’un soin supplémentaire.
Conseils d'utilisation :
Ingrédients :
Water, Glycerin, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Carbomer, Tromethamine, Pinus Densiflora Leaf Extract, Propanediol, Polyglyceryl-6 Caprylate, Polyglyceryl-4 Caprate, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Hydroxyethylcellulose, Disodium EDTA, Biosaccharide Gum-1, Capryloyl Salicylic Acid, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Portulaca Oleracea Extract, Centella Asiatica Extract, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Glycoproteins, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Madecassoside, Asiaticoside
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